原名:SSDM 2000 Advance Program
作品简介:Kotsukosha Bldg 3F, 3-6-8 Chuo, Aoba-ku, Sendai 980-0021, Japan .. [6] 化合物半导体材料和器件工艺 V)。 [7] 新型设备、物理和制造。主席：K. Matsumoto (ETL)。沟道离子注入晶体管被评价为关键技术之一……
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原名:SSDM 2000 Advance Program
作品简介:Kotsukosha Bldg 3F, 3-6-8 Chuo, Aoba-ku, Sendai 980-0021, Japan .. [6] 化合物半导体材料和器件工艺 V)。 [7] 新型设备、物理和制造。主席：K. Matsumoto (ETL)。沟道离子注入晶体管被评价为关键技术之一……
