原名:Stress-Strain Management of Heteroepitaxial Polycrystalline Silicon Carbide Films
作品简介:Anzalone、Corrado Bongiorno、Massimo Camarda，来自 IMM-CNR。我想通过 CVD 键与另一个岛的另一个 Si 或 C 原子形成 Si-Si 或 C-C 键来进行 2.5.2 多晶碳化硅薄膜的应力控制。……
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原名:Stress-Strain Management of Heteroepitaxial Polycrystalline Silicon Carbide Films
作品简介:Anzalone、Corrado Bongiorno、Massimo Camarda，来自 IMM-CNR。我想通过 CVD 键与另一个岛的另一个 Si 或 C 原子形成 Si-Si 或 C-C 键来进行 2.5.2 多晶碳化硅薄膜的应力控制。……
